پرونده:Setup+of+proximity+x-ray+lithography.jpg
ظاهر
![پرونده:Setup+of+proximity+x-ray+lithography.jpg](http://upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/thumb/3/3c/Setup%2Bof%2Bproximity%2Bx-ray%2Blithography.jpg/800px-Setup%2Bof%2Bproximity%2Bx-ray%2Blithography.jpg)
اندازهٔ این پیشنمایش: ۸۰۰ × ۶۰۰ پیکسل. کیفیتهای دیگر: ۳۲۰ × ۲۴۰ پیکسل | ۶۴۰ × ۴۸۰ پیکسل | ۹۶۰ × ۷۲۰ پیکسل.
پروندهٔ اصلی (۹۶۰ × ۷۲۰ پیکسل، اندازهٔ پرونده: ۶۲ کیلوبایت، نوع MIME پرونده: image/jpeg)
تاریخچهٔ پرونده
روی تاریخ/زمانها کلیک کنید تا نسخهٔ مربوط به آن هنگام را ببینید.
تاریخ/زمان | بندانگشتی | ابعاد | کاربر | توضیح | |
---|---|---|---|---|---|
کنونی | ۲۵ ژانویهٔ ۲۰۲۲، ساعت ۰۸:۱۷ | ![]() | ۹۶۰ در ۷۲۰ (۶۲ کیلوبایت) | Amirndir | Uploaded a work by Elsevier B.V. Abrar Faisal, Thomas Beckenbach, Jürgen Mohr, and Pascal Meyer from https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S0167931715001604 https://www.spiedigitallibrary.org/journals/journal-of-micro-nanopatterning-materials-and-metrology/volume-18/issue-02/023502/Influence-of-secondary-effects-in-the-fabrication-of-submicron-resist/10.1117/1.JMM.18.2.023502.full?SSO=1 with UploadWizard |
کاربرد پرونده
صفحهٔ زیر از این تصویر استفاده میکند: