پرونده:Photolithography etching process.svg
حجم پیشنمایش PNG این SVG file:۱۲۰ × ۶۰۰ پیکسل کیفیتهای دیگر: ۴۸ × ۲۴۰ پیکسل | ۹۶ × ۴۸۰ پیکسل | ۱۵۳ × ۷۶۸ پیکسل | ۲۰۴ × ۱٬۰۲۴ پیکسل | ۴۰۹ × ۲٬۰۴۸ پیکسل | ۵۱۲ × ۲٬۵۶۰ پیکسل.
پروندهٔ اصلی (پروندهٔ اس‌وی‌جی، با ابعاد ۵۱۲ × ۲٬۵۶۰ پیکسل، اندازهٔ پرونده: ۸ کیلوبایت)
 | این پرونده در ویکی‌انبار موجود است. محتویات صفحهٔ توصیف آن در زیر نمایش داده می‌شود. |
|
این پروندهٔ اس‌وی‌جی از متن جاسازی‌شده استفاده می‌کند که به‌سادگی می‌توان با این ابزار خودکار آن را به زبانتان ترجمه کرد (اطلاعات بیشتر).
همچنین می‌توانید تصویر را دریافت و با یک ویرایشگر متن به طور دستی آن را ویرایش کنید. |
W3C-validity not checked.
خلاصه
| توضیح |
English: Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. Note: Not to scale. |
| منبع | اثر شخصی |
| پدیدآور | Cmglee |
| دیگر نسخه‌ها |
|
.svg)
اجازه‌نامه
من، صاحب حقوق قانونی این اثر، به این وسیله این اثر را تحث اجازه‌نامه‌های ذیل منتشر می‌کنم:
این پرونده با اجازه‌نامهٔ کریتیو کامانز Attribution-Share Alike 3.0 سازگار نشده منتشر شده است.
- شما اجازه دارید:
- برای به اشتراک گذاشتن – برای کپی، توزیع و انتقال اثر
- تلفیق کردن – برای انطباق اثر
- تحت شرایط زیر:
- انتساب – شما باید اعتبار مربوطه را به دست آورید، پیوندی به مجوز ارائه دهید و نشان دهید که آیا تغییرات ایجاد شده‌اند یا خیر. شما ممکن است این کار را به هر روش منطقی انجام دهید، اما نه به هر شیوه‌ای که پیشنهاد می‌کند که مجوزدهنده از شما یا استفاده‌تان حمایت کند.
- انتشار مشابه – اگر این اثر را تلفیق یا تبدیل می‌کنید، یا بر پایه آن اثری دیگر خلق می‌کنید، می‌‌بایست مشارکت‌های خود را تحت مجوز یکسان یا مشابه با ا اصل آن توزیع کنید.
|
اجازهٔ کپی، پخش و/یا تغییر این سند تحت شرایط مجوز مستندات آزاد گنو، نسخهٔ ۱٫۲ یا هر نسخهٔ بعدتری که توسط بنیاد نرم‌افزار آزاد منتشر شده؛ بدون بخش‌های ناوردا (نامتغیر)، متون روی جلد، و متون پشت جلد، اعطا می‌شود. یک کپی از مجوز در بخشی تحت عنوان مجوز مستندات آزاد گنو ضمیمه شده است. |
می‌توانید مجوز دلخواه خود را برگزینید.
تاریخچهٔ پرونده
روی تاریخ/زمان‌ها کلیک کنید تا نسخهٔ مربوط به آن هنگام را ببینید.
| تاریخ/زمان | بندانگشتی | ابعاد | کاربر | توضیح | |
|---|---|---|---|---|---|
| کنونی | ۱۷ آوریل ۲۰۲۲، ساعت ۰۸:۲۷ | | ۵۱۲ در ۲٬۵۶۰ (۸ کیلوبایت) | Djiboun | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for fr. |
| ۲۰ ژوئن ۲۰۲۰، ساعت ۱۳:۱۸ |  | ۵۱۲ در ۲٬۵۶۰ (۵ کیلوبایت) | Mega deppa | Reverted to version as of 16:52, 9 October 2011 (UTC) | |
| ۲۰ ژوئن ۲۰۲۰، ساعت ۱۳:۱۶ |  | ۵۱۲ در ۲٬۵۶۰ (۸ کیلوبایت) | Mega deppa | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for ja. | |
| ۹ اکتبر ۲۰۱۱، ساعت ۱۶:۵۲ |  | ۵۱۲ در ۲٬۵۶۰ (۵ کیلوبایت) | Cmglee | Align text, change enumeration and change colour to match Image:CMOS_fabrication_process.svg. | |
| ۳۰ سپتامبر ۲۰۱۱، ساعت ۲۲:۰۳ |  | ۵۱۲ در ۲٬۵۶۰ (۵ کیلوبایت) | Cmglee | Merge develop and remove exposed photoresist. | |
| ۲۹ سپتامبر ۲۰۱۱، ساعت ۲۲:۴۶ |  | ۵۱۲ در ۲٬۹۲۶ (۵ کیلوبایت) | Cmglee | Fix text alignment. | |
| ۲۹ سپتامبر ۲۰۱۱، ساعت ۲۲:۳۹ |  | ۵۱۲ در ۲٬۹۲۶ (۵ کیلوبایت) | Cmglee | Fix text alignment. | |
| ۲۹ سپتامبر ۲۰۱۱، ساعت ۲۲:۳۷ |  | ۵۱۲ در ۲٬۹۲۶ (۵ کیلوبایت) | Cmglee | Fix text alignment. | |
| ۲۹ سپتامبر ۲۰۱۱، ساعت ۲۲:۳۰ |  | ۵۱۲ در ۳٬۴۱۳ (۵ کیلوبایت) | Cmglee | {{Information |Description ={{en|1=Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. }} |Source ={{own}} |Author =Cmglee |Date |
کاربرد پرونده
صفحه‌های زیر از این تصویر استفاده می‌کنند:
کاربرد سراسری پرونده
ویکی‌های دیگر زیر از این پرونده استفاده می‌کنند:
- کاربرد در ar.wikipedia.org
- کاربرد در ca.wikipedia.org
- کاربرد در en.wikipedia.org
- کاربرد در en.wikibooks.org
- کاربرد در fr.wikipedia.org
- کاربرد در ja.wikipedia.org
- کاربرد در www.wikidata.org
