انباشت بخار شیمیایی افزایش‌یافته با پلاسمای کم‌انرژی
(تغییرمسیر از انباشت بخار شیمیایی افزایش یافته با پلاسمای کم‌انرژی)
انباشت بخار شیمیایی افزایش‌یافته با پلاسمای کم‌انرژی (انگلیسی: Low-energy plasma-enhanced chemical vapor deposition) CVD) از پلاسمای کم‌چگالی و کم‌انرژی برای به دست آوردن رسوب اپیتاکسیال مواد نیمه‌رسانا با سرعت بالا و دماهای پایین استفاده می‌شود.
جستارهای وابسته[ویرایش]
منابع[ویرایش]
- مشارکت‌کنندگان ویکی‌پدیا. «Low-energy plasma-enhanced chemical vapor deposition». در دانشنامهٔ ویکی‌پدیای انگلیسی، بازبینی‌شده در ۱۸ فوریه ۲۰۲۱.